湿法EKC清洗机_苏州芯矽科技 返回列表页

湿法EKC清洗机是一款结合化学作用与机械作用，高效、精确且自动化去除晶圆表面杂质的半导体清洗设备。那么针对它，我们下面从性能、性能、使用方面等角度，来给大家详细介绍一下：

产品性能：

湿法EKC清洗机展现出的性能良好。它具备高效的清洗能力，能快速去除晶圆表面杂质。清洗过程中，精确的温度、时间以及化学溶液浓度等参数控制，确保了清洗的稳定性和一致性。其自动化操作功能减少了人工干预，提高了生产效率，同时也降低了误操作的风险。

特点：

该清洗机在于其结合了化学作用和机械作用。化学溶液中的氧化剂和酸性物质与杂质反应，而液体的流动冲刷以及超声波装置进一步增强了清洗效果。它可以实现对晶圆表面的均匀清洗，保证高质量的清洗结果。此外，过滤系统有助于延长化学溶液的使用寿命，降低运营成本。

使用方面：

湿法EKC清洗机适用于半导体制造过程中的多个环节，特别是在光刻、刻蚀等关键工艺前对晶圆的清洗。它可以有效去除有机和无机杂质，提高芯片的质量。使用时，只需根据不同的清洗需求选择合适的清洗模式，然后将晶圆放入清洗机中，启动清洗程序即可。清洗完成后，还具备干燥功能，方便后续的处理。

备注:以上给出的是参考价格，具体的价格根据产品的配置与参数，需要面议决定。