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极紫外（EUV）传奇 —— 二氧化碳激光器如何拯救大局！
时间：2025-8-11
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当整个半导体产业在夜以继日地提升微芯片的算力，激光技术的突破性进展注定将在其中扮演关键角色。高效生产是半导体行业成功的关键，EUV 光刻机的可用性超过了99%，而 EUV 光刻技术的核心之一正是激光脉冲。通快是目前全球唯一一家能供应 EUV 光刻设备激光光源的厂商！
被时代遗弃的产物？
半导体光刻机的核心是通快激光放大器
所有人都以为二氧化碳激光器已日薄西山。这种 1990 年代金属加工界的“老将”开始显得有些笨重——尤其是因为这种激光器的光束不适合通过激光光纤传输。进入 21 世纪初，金属加工商纷纷转向更灵活的光纤与碟片激光器。二氧化碳激光只被留在严苛和脏乱的工作环境。
激光技术首次为半导体行业的
生存级难题提供了答案
EUV 光最初的来源-
二氧化碳激光器中的受激混合气体发出的光
2005 年前后，救赎却来自最意想不到的角落：正是那个追求超洁净、超高精度的半导体行业，开始对这台粗犷的二氧化碳激光器产生浓厚兴趣。人们希望它能帮助解决芯片架构中的一个长期问题：如何在更小的空间内集成更多的计算能力。也就是把微芯片继续缩小。该想法是将极紫外辐射(EUV)应用在光刻技术上，以在硅片上制造更精细的晶体管电路。问题是如何产生 EUV 光。结果证明，只有通快提供的高可靠、高功率二氧化碳激光器，才能打出那束“激发光源”，进而生成符合工业标准质量的 EUV 光。
这远非半导体行业第一次、也不是唯一一次求助于激光技术。然而，EUV 这个案例的关键在于：激光第一次为芯片制造商的“生存级”难题——“到哪里去找更强的计算力？”——给出了全新的答案。而这也绝不会是激光最后一次发挥关键作用！